特点:
双组分同步监测(SiF2、CF4) *仅限 IR-4 系列
高灵敏度
气室加热功能
模拟/数字通信
多显示器
用于腔室清洁终点检测的气体监测仪IR-422 IR-432
在半导体制造的成膜过程中,由于微细加工的进步,为了提高生产率,在加工后始终保持腔室清洁非常重要。 IR-400 系列是用于薄膜沉积工艺的腔室清洁终点检测监视器,可实时监控废气成分(SiF4、CF4)。 它有助于优化干洗终点检测,减少清洁气体消耗和时间,并减少腔室损坏,从而延长零件的使用寿命。
特点:
双组分同步监测(SiF2、CF4) *仅限 IR-4 系列
高灵敏度
气室加热功能
模拟/数字通信
多显示器
用于腔室清洁终点检测的气体监测仪IR-422 IR-432
在半导体制造的成膜过程中,由于微细加工的进步,为了提高生产率,在加工后始终保持腔室清洁非常重要。 IR-400 系列是用于薄膜沉积工艺的腔室清洁终点检测监视器,可实时监控废气成分(SiF4、CF4)。 它有助于优化干洗终点检测,减少清洁气体消耗和时间,并减少腔室损坏,从而延长零件的使用寿命。
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